Экспонирования: Недопустимое название — Викисловарь

Содержание

Установка совмещения и экспонирования SUSS MA/BA 6/8 Gen4

Установка совмещения и экспонирования

с возможностью проводить в установке fusion-бондинг процесс без переноса в отдельный бондер

Навигация по описанию
Применение
Совмещение
Оптика и блок лампы
Экспонирование
Дополнительные возможности (опции)


Серия MA/BA Gen4 является новейшим поколением полуавтоматических систем совмещения и экспонирования компании SUSS MicroTec и представляет новую платформенную систему. Два типа платформ отличаются конфигурацией, которая включает в себя систему MA/BA Gen4 для стандартных процессов и MA/BA Gen4 Pro для усовершенствованных и высокотехнологичных процессов. Серия MA/BA Gen4 представляет модели с базовой комплектацией - MA/BA6 Gen4 и MA/BA8 Gen4.

Благодаря эргономичной и удобной в использовании конструкции и уменьшенным размерам эти системы являются идеальным инструментом для научных исследований и мелкосерийного производства. Линейка MA/BA Gen4 задает новый стандарт в литографии по всему полю для широкого спектра полупроводников, МЭМС и НЭМС, 3D-интеграции и т. д.. Кроме того, эти платформы могут использоваться для

совмещения перед сращиванием, прямое сращивание (fusion-бондинг) и SMILE-импринтинга. Процессы, созданные на установке совмещения и экспонирования МА/ВА Gen4, можно легко перенести на автоматизированные платформы систем совмещения компании SUSS MicroTec для крупносерийного производства.

Основные преимущества

  • Низкие эксплуатационные расходы
  • Высокая степень автоматизации
  • Совершенные технологии совмещения с верхней, нижней стороны, а также совмещения с ИК-подсветкой
  • Высокоточный блок микроскопа
  • Специальная оптика для достижения максимальной универсальности
  • Возможность работы с подложками различных форм и размеров
  • Бережная обработка хрупких, вогнутых или неровных пластин
  • Совершенный эргономичный дизайн

Опции

  • Высокоточное совмещение полупроводниковых пластин
  • Прямое сращивание пластин непосредственно в установке (fusion-бондинг)
  • Импринт-литография для создания структур на всей поверхности (SMILE)

Для научных исследований и производства

МЭМС

Экспонирующая оптика линейки МА/ВА Gen4, обеспечивающая высокую равномерность освещения и формирование необходимого светового луча, идеально подходит для обработки толстопленочных структур МЭМС.

Возможность совмещения с нижней стороны или в ИК-подсветке (проходящее или отражающее освещение), совмещения для сращивания и обработки любого типа подложки превращают данную платформу в совершенное устройство для разработки и мелкосерийного производства МЭМС-устройств.

Научные исследования

Платформа MA/BA Gen4 является гибкой и удобной в эксплуатации, что делает ее идеальным выбором для научных исследований. Независимо от того используется ли она для наноимпринт литографии, совмещения для сращивания или литографии толстопленочных резистов, переход между процессами осуществляется легко и просто, обеспечивая высокую гибкость. Дополнительные опции, такие как автоматизированное совмещение с ассистентом, смогут оказать помощь в работе неопытным операторам.

3D-структурирование

Установки совмещения и экспонирования серии MA/BA Gen4 можно дополнительно оборудовать устройствами SMILE (инструменты для импринт-литографии компании SUSS MicroTec) - технологии, которая позволяет провести высокоточное воспроизведение микро- и наноструктур. Литография SMILE используется в области 3D-структур и оптических линз для камер, работающих на уровне пластины.

Технологии совмещения


Совмещение с верхней стороны (TSA)
Устройства линейки MA/BA Gen4 могут быть оснащены высокоточной системой совмещения с верхней стороны. Она способна добиться точности совмещения до 0,25 мкм (требуются определенные параметры) при полностью автоматическом совмещении или совмещении с ассистентом.
Совмещение с нижней стороны (BSA)
Для многих процессов, например корпусирования МЭМС, необходимо совмещение с обеих сторон подложки. Устройства линейки MA/BA Gen4 могут быть дополнительно оснащены микроскопами для совмещения с нижней стороны, которые обеспечивают точность совмещения
Совмещение с инфракрасной подсветкой (ИК)
Совмещение в инфракрасном излучении позволяет работать с непрозрачными, но ИК-проницаемыми материалами, такими как GaAs, InP, кремний или адгезивы, которые используются в процессах с тонкими полупроводниковыми пластинами или при герметизации. Установки совмещения и экспонирования линейки MA/BA Gen4 могут быть дополнительно оснащены набором отражающей или проходящей ИК-оптики к стандартному микроскопу для совмещения с нижней стороны.

Блок совмещения


Соосные микроскопы для двойного совмещения
Жесткая механическая конструкция, которая позволяет смонтировать системы для совмещения с верхней и нижней стороны на одну направляющую, увеличивает точность совмещения и дает возможность уменьшить количество перемещений блока микроскопа. Еще одним преимуществом такого компактного дизайна является небольшие габариты основания машины.
Цифровые микроскопы и камеры
Совмещение с использованием цифровых микроскопов и камер высокого разрешения позволяет добиться отличных результатов. Современные системы цифрового просмотра обеспечивают широкое поле обзора, исключая необходимость прямого визуального контроля. Кроме того, больше не требуется механический переключатель увеличения.

Режимы совмещения


Совмещение в ручном режиме
Этот режим основан на ручном контроле совмещения с помощью джойстика. Оператор самостоятельно управляет качеством процесса.
Совмещение с ассистентом
Оператор получает подсказки от программы автоматического распознавания структур во время совмещения в ручном режиме. Система распознавания структур СОGNEX - специальное программное обеспечение для обработки изображений - постоянно измеряет точность совмещения и сообщает о результатах оператору.
Совмещение в автоматическом режиме
Система СОGNEX не только автоматически распознает расположение меток на полупроводниковых пластинах и шаблонах, но и контролирует движение платформы. Совмещение происходит в полностью автоматическом режиме без участия оператора.
DirectAliGN
Данный режим совмещения с поддержкой ПО работает с живыми изображениями, а не сохраненными метками совмещения, и позволяет добиться точности до 0,25 мкм. Режим DirectAlign рекомендуется использовать в случаях, когда требуется исключительно высокая точность совмещения.

Оптика и блок лампы

Индивидуальные решения для любых требований

Блок лампы UV-LED

Технология засветки фоторезиста с помощью УФ-светодиодов (UV-LED) на установках совмещения и экспонирования МА/ВА Gen4 является высокоэффективной - срок службы таких ламп в несколько раз больше стандартных ртутных. Более того, им не требуется дополнительное время для нагрева или охлаждения, поскольку светодиоды включаются только во время экспонирования. Эти факторы значительно способствуют снижению энергопотребления.

В сравнении с ртутными лампами источники освещения со светодиодами не только более эффективны в работе, но и обеспечивают большую гибкость эксплуатации. УФ-светодиоды работают в том же спектральном диапазоне, что и ртутные лампы, но разница заключается в том, что УФ-светодиоды позволяют включить или выключить определенную длину волны в соответствии с требованиями процесса. Это исключает необходимость оптической фильтрации света после блока лампы. Спектральные настройки легко редактируются через стандартные параметры рецепта без смены фильтра или перекалибровки.

Использование платформ МА/ВА Gen4 значительно снижает эксплуатационные расходы системы. Светодиоды служат во много раз дольше, чем стандартные, что позволяет уменьшить расходы на замену лампочек. Время простоя, заказ новых ламп, настройка и утилизация старого материала теперь отошли в прошлое. Применение светодиодов является безопасным и экологически рациональным. Это шаг к новым стандартам как в области охраны и безопасности труда, так и в сфере защиты окружающей среды.

Оптика MO Exposure Oprics (MOEO)

В основе экспонирующей оптики МОЕО компании SUSS лежит использование набора высококачественных микролинз в сочетании со сменной пластиной фильтра. Они моделируют смену экспонирующей оптики, благодаря чему отсутствует необходимость в дополнительных оптических компонентах. Данная оптическая система позволяет добиться исключительной равномерности освещения.

Оптика МОЕО дает возможность создать индивидуальные решения в освещении с помощью смены пластины фильтра и позволяет использовать усовершенствованные методы литографии, такие как оптимизация фотошаблонов (SMO) или оптическая коррекция эффекта близости (ОРС).

Также из преимуществ оптики следует отметить отсутствие необходимости постоянной юстировки ртутной лампы.

Экспонирование

Соответствие индивидуальным требованиям

Режимы экспонирования

Платформы МА/ВА Gen4 предлагают различные режимы экспонирования для широкого ряда процессов. Экспонирование с мягким, жестким и вакуумным контактом используется для достижения максимального разрешения вплоть до субмикронного уровня. Экспонирование с зазором используется, чтобы избежать контакта между шаблоном и полупроводниковой пластиной - отсутствие загрязнений на шаблоне приводит к увеличению производительности и снижению издержек.

Системы MA/BA Gen4 могут быть дополнительно оснащены блоком ламп мощностью 350 Вт или светодиодами, эквивалентными ртутным лампам UV 400 мощностью 1000 Вт.

Разрешение установки совмещения и экспонирования МA/BA GeN 4

Режим UV400 UV300 UV250
Вакуумный контакт < 0,8 мкм < 0,7 мкм < 0,6 мкм
Жесткий контакт < 1,5 мкм < 1,0 мкм -
Мягкий контакт < 2,5 мкм < 2,0 мкм -
Зазор (20 мкм) < 3,0 мкм < 2,5 мкм -
Разрешение, получаемое на кремниевой пластине 150 мм с резистом AZ 4110 толщиной 1,2 мкм (UV400, UV300) и резистом толщиной 0,8 мкм (UV6, UV250) соответственно.


Доступное разрешение зависит от размера полупроводниковой пластины, ее плоскостности, типа резиста, условий чистой комнаты и, следовательно, может быть различным для разных процессов.

Выравнивание пластины и контроль зазора экспонирования

Точность для максимального разрешения
Точное выравнивание и контроль зазора между фотошаблоном и пластиной является необходимым для оптимального разрешения. Этот процесс обеспечивает параллельность расположения фотошаблона и подложки во время совмещения и экспонирования, а также точность контроля зазора, чтобы исключить ошибки параллакса (клина) и добиться максимального разрешения. Система выравнивания и калибровки зазора платформ MA/BA Gen4 позволяет добиться лучших показателей точности и надежности.

Дополнительные возможности

За пределами стандартной литографии

Совмещение для сращивания

Платформы MA/BA Gen4 можно использовать в двух конфигурациях: как систему совмещения фотошаблонов и совмещения для сращивания или как установку для совмещения.
Система совмещения для сращивания BA Gen4 совмещает полупроводниковые пластины и фиксирует их для сохранения положения во время ручного перемещения в установку для сращивания.

Инновационная система позволяет добиться высокой точности, гибкости и воспроизводимости результатов, а также уменьшения эксплуатационных расходов. Жесткая и прочная платформа совмещения в сочетании с опциями автоматического совмещения и совмещения с ассистентом обеспечивает надежное и точное совмещение пластин.

Проверенная временем система компенсации клиновидной погрешности гарантирует высокую плоскостность между пластинами. Система BA Gen4 позволяет проводить даже наиболее сложные процессы совмещения при производстве МЭМС и светодиодов, а также в области 3D-интеграции.

Прямое сращивание пластин непосредственно в установке (fusion-бондинг)

При прямом сращивании происходит спонтанное склеивание двух пластин. Предшествующий процесс предварительного сращивания также происходит в установке сращивания. После завершения точного совмещения две полупроводниковые пластины приводятся в прямой контакт, что запускает процесс сращивания непосредственно в установке

Оборудование SUSS для импринт-литографии (SMILE)

Для переноса структур в микронном и нанометрическом диапазоне платформа МА/ВА Gen4 предлагает технологию SMILE.

Возможны два типа обработки, их выбор зависит от необходимого разрешения:

  • для импринтинга микроструктур фоточувствительный полимер осаждается в центре подложки и затем распространяется к внешним краям, заполняя канавки. Активный контроль точного расположения технологического зазора через замкнутый контур обратной связи позволяет добиться необходимой толщины осаждаемого слоя.
  • При импринтинге наноструктур в центр подложки помещается шибкий штамп, затем контакт расширяется к краям подложки.
Оба процесса позволяют добиться очень точного воспроизведения микро- и наноструктур, открывая целый ряд возможностей применения. Литография SMILE используется, например, в области 3D-структур и оптических линз для камер, работающих на уровне пластины.

Об утверждении Правил приобретения, коллекционирования, экспонирования, учета, хранения, перевозки и транспортирования оружия, имеющего культурную ценность, государственными и муниципальными музеями , Постановление Правительства РФ от 05 июня 2020 года №827

Об утверждении Правил приобретения, коллекционирования, экспонирования, учета, хранения, перевозки и транспортирования оружия, имеющего культурную ценность, государственными и муниципальными музеями

В соответствии с частью седьмой статьи 9 Федерального закона "Об оружии" Правительство Российской Федерации

постановляет:

Утвердить прилагаемые Правила приобретения, коллекционирования, экспонирования, учета, хранения, перевозки и транспортирования оружия, имеющего культурную ценность, государственными и муниципальными музеями.

Председатель Правительства
Российской Федерации
М.Мишустин

Правила приобретения, коллекционирования, экспонирования, учета, хранения, перевозки и транспортирования оружия, имеющего культурную ценность, государственными и муниципальными музеями

УТВЕРЖДЕНЫ
постановлением Правительства
Российской Федерации
от 5 июня 2020 года N 827

I. Общие положения

1. Настоящие Правила определяют порядок приобретения, коллекционирования, экспонирования, учета, хранения, перевозки и транспортирования оружия, имеющего культурную ценность, государственными и муниципальными музеями (далее соответственно - оружие, музеи).

2. Понятия, используемые в настоящих Правилах, означают следующее:

"коллекционирование" - хранение и собирание оружия в качестве музейных предметов и музейных коллекций в целях осуществления просветительской, научно-исследовательской и образовательной деятельности;

"перевозка" - перемещение оружия в место назначения транспортными средствами на договорной основе юридическими лицами, уставами которых предусмотрено оказание услуг по перевозке оружия;

"приобретение" - покупка или получение на ином законном основании музеем оружия, переданного в государственную или муниципальную собственность, в целях включения его в состав Музейного фонда Российской Федерации;

"транспортирование" - перемещение оружия в целях деятельности музея транспортным средством музея;

"экспонирование" - публичное представление оружия в экспозиции музея или на выставках.

II. Приобретение оружия

3. Музеи в целях, определенных законодательством Российской Федерации о Музейном фонде Российской Федерации и музеях в Российской Федерации, могут приобретать оружие у юридических лиц, имеющих право продавать находящееся у них на законных основаниях оружие, и у физических лиц (далее - правоотчуждатели), а также получать его от Министерства культуры Российской Федерации путем безвозмездной передачи.

4. Для приобретения музеем оружия правоотчуждатель направляет в адрес музея заявление в письменной форме, в котором указываются способ планируемой передачи оружия (купля-продажа, дарение, пожертвование, безвозмездная передача), а также сведения о возникновении права собственности правоотчуждателя. К заявлению прикладывается заключение государственной экспертизы оружия, имеющего культурную ценность, копий старинного (антикварного) оружия и реплик старинного (антикварного) оружия.

5. После получения заявления и документов, указанных в пункте 4 настоящих Правил, экспертной фондово-закупочной комиссией музея (далее - экспертная комиссия) проводится экспертиза оружия для установления историко-культурной, художественной, научной и иной его ценности для включения в состав Музейного фонда Российской Федерации в соответствии с Положением о Музейном фонде Российской Федерации, утвержденным Министерством культуры Российской Федерации.

Оружие принимается музеем для проведения экспертизы на основании акта приема-передачи, в котором указываются название, размеры предмета, материал, техника изготовления, описываются имеющиеся клейма и надписи, состояние сохранности (далее - акт приема-передачи).

Для оружия с содержанием драгоценных металлов и (или) драгоценных камней в акте приема-передачи дополнительно указываются вид, проба и масса драгоценных металлов, вид, количество и характеристика вставок из драгоценных камней, используемых в художественно оформленном оружии.

6. Прием музеем оружия на постоянное хранение осуществляется при наличии экспертного заключения экспертной комиссии об историко-культурной, художественной, научной и иной ценности оружия на основании договора, заключаемого в соответствии с гражданским законодательством Российской Федерации между музеем и правоотчуждателем.

7. Оружие, получаемое музеем от Министерства культуры Российской Федерации, сначала принимается по акту приема-передачи с учетом условий, определенных пунктом 5 настоящих Правил, а после получения экспертного заключения экспертной комиссии об историко-культурной, художественной, научной и иной ценности оружия оружие принимается на постоянное хранение на основании договора, заключенного между музеем и Министерством культуры Российской Федерации.

8. Оружие, в отношении которого экспертной комиссией не подтверждены историко-культурное, художественное и научное значение и целесообразность его включения в состав Музейного фонда Российской Федерации, подлежит возврату правоотчуждателю по соответствующему акту приема-передачи с приложением к нему копии экспертного заключения экспертной комиссии и заключения государственной экспертизы, указанного в пункте 4 настоящих Правил.

9. Оружие может быть принято музеем на постоянное хранение исключительно в целях включения его в состав Музейного фонда Российской Федерации.

10. Музей в течение 5 рабочих дней со дня включения оружия в состав Музейного фонда Российской Федерации либо исключения из него информирует об этом территориальный орган Федеральной службы войск национальной гвардии Российской Федерации по месту нахождения музея.

11. Владение музеем оружием может осуществляться на праве оперативного управления или безвозмездного пользования, закрепляемых актом органа, осуществляющего функции учредителя музея.

III. Коллекционирование оружия

12. Коллекционирование оружия осуществляется музеями в соответствии с тематическим профилем музея.

В целях коллекционирования осуществляется систематизация оружия в соответствии с утвержденной экспертной комиссией музея структурой основного фонда.

IV. Экспонирование оружия

13. При экспонировании в экспозициях и на выставках музей обязан обеспечить сохранность оружия.

14. Оружие экспонируется в шкафах, витринах или на стендах (далее - экспозиционное оборудование), закрытых стеклом толщиной не менее 5 миллиметров, оклеенным защитной пленкой.

Оружие прикрепляется к полкам или стенам экспозиционного оборудования при помощи удерживающих элементов, исключающих возможность свободного доступа к нему посторонних лиц.

15. Экспозиционное оборудование должно быть прочным и устойчивым с учетом габаритов и массы оружия, должно быть снабжено внутренними замками и специальными приспособлениями для наложения пломб и печатей хранителем оружия и оснащено локальной сигнализацией, работающей в круглосуточном режиме.

При экспонировании оружия в витринах они должны опечатываться (пломбироваться) хранителем оружия.

16. Экспозиционное оборудование, в котором экспонируется оружие, должно попадать в зону обзора системы видеонаблюдения. Зал, где экспонируется оружие, в часы работы музея должен находиться под охраной смотрителей или сотрудников службы безопасности музея, оснащенных переносными кнопками тревожной сигнализации.

17. В целях экспонирования оружия музеем составляется топографическая опись, где указываются номера первичного и централизованного учета, инвентарный номер и номер по книге специального учета оружия. При этом топографическая опись составляется в 3 экземплярах - для хранителя оружия, смотрителя зала и отдела учета.

V. Учет оружия

18. Учет оружия, принятого на постоянное хранение музеем, включает следующие этапы:

а) первичный государственный учет (регистрация оружия в книге поступлений основного фонда музея (главной инвентарной книге музея), осуществляемый в соответствии со статьей 6 Федерального закона "О Музейном фонде Российской Федерации и музеях в Российской Федерации";

б) централизованный государственный учет (внесение сведений об оружии в реестр музейных предметов и музейных коллекций, включенных в состав Музейного фонда Российской Федерации в соответствии со статьей 10 Федерального закона "О Музейном фонде Российской Федерации и музеях в Российской Федерации" и Положением о Государственном каталоге Музейного фонда Российской Федерации, утвержденным Министерством культуры Российской Федерации;

в) изучение, описание и научное определение оружия (регистрация в инвентарной книге) в порядке, утверждаемом Министерством культуры Российской Федерации;

г) специальный учет предметов оружия (регистрация в книге специального учета оружия) в соответствии с пунктами 19 и 20 настоящих Правил.

19. Форма книги специального учета оружия и порядок ее ведения утверждаются Министерством культуры Российской Федерации.

20. Регистрация оружия в книгах специального учета оружия осуществляется в срок, не превышающий 30 календарных дней после внесения сведений об оружии в Государственный каталог Музейного фонда Российской Федерации.

21. Основанием для исключения оружия из книги специального учета оружия являются приказ Министерства культуры Российской Федерации и документы, подтверждающие прием оружия территориальным органом Федеральной службы войск национальной гвардии Российской Федерации для уничтожения при исключении оружия из состава Музейного фонда Российской Федерации.

VI. Хранение оружия

22. Для хранения оружия в музеях приказом руководителя музея по согласованию с органом, осуществляющим функции учредителя музея, назначаются ответственные лица - хранители оружия. Прием оружия на ответственное хранение хранителем оружия осуществляется на основании акта, который регистрируется в соответствующей книге регистрации актов музея.

23. Музей обязан обеспечить хранение оружия в специально оборудованных хранилищах, оснащенных техническими средствами защиты и многорубежной охранной сигнализацией, подключенной к пульту организации, обеспечивающей охрану. В случае невозможности по техническим причинам подключения помещения к централизованной охране оно оборудуется автономной сигнализацией с установкой звуковых и световых сигнализаторов вблизи поста охраны (при круглосуточной охране) либо на внешней стороне здания. Фондохранилище для хранения оружия должно быть оборудовано автоматическими системами обнаружения и тушения пожара в соответствии с нормативными правовыми актами Российской Федерации и нормативными документами по пожарной безопасности.

Система хранения должна обеспечивать сохранность оружия, безопасность хранения и исключать несанкционированный доступ к оружию посторонних лиц.

24. Хранение оружия должно быть организовано в сейфах или металлических шкафах (далее - фондовое оборудование) с внутренними замками и специальными приспособлениями для наложения пломб и печатей хранителя оружия.

В фондовом оборудовании должны быть полочные топоописи, подписанные хранителем оружия.

25. Допускается размещение фондового оборудования в одном помещении с художественно оформленными моделями оружия, содержащими драгоценные металлы и (или) драгоценные камни.

26. Порядок опечатывания фондового оборудования, входных дверей в фондохранилище, обеспечения пропускного режима и выдачи ключей утверждается внутримузейной инструкцией по учету и хранению музейных предметов, утвержденной приказом руководителя музея.

27. Хранение оружия, переданного в целях приобретения и экспонирования и не включенного в состав Музейного фонда Российской Федерации, осуществляется в порядке, определенном настоящим разделом.

VII. Перевозка и транспортирование оружия

28. Оружие перевозится или транспортируется с обеспечением условий сохранности и безопасности в специальной таре, которая должна быть опечатана или опломбирована хранителем оружия.

29. При перевозке или транспортировании оружия транспортные средства должны быть технически исправны, а также должна быть исключена возможность визуального обзора груза и свободного доступа к нему посторонних лиц.

30. Для перевозки и транспортирования оружия музеем обеспечивается сопровождение огнестрельного оружия в количестве более 20 единиц в пути следования охраной в количестве не менее 1 человека, вооруженного огнестрельным оружием.

31. В случаях перевозки или транспортирования оружия колонной более 2 автомашин их охрана обеспечивается группой сопровождения в количестве не менее 3 человек, вооруженной огнестрельным оружием, следующей на специально выделенном транспортном средстве. При обнаружении признаков вскрытия транспортного средства, перевозящего оружие, повреждения тары, нарушения оттисков печатей или пломб старший вооруженной охраны обязан немедленно сообщить об этом в органы внутренних дел Российской Федерации, составить акт, принять необходимые меры по установлению причин случившегося и обеспечить охрану места происшествия.

32. Перевозка и транспортирование оружия осуществляются без разрешения Федеральной службы войск национальной гвардии Российской Федерации или ее территориального органа.


Электронный текст документа
подготовлен АО "Кодекс" и сверен по:

Официальный интернет-портал
правовой информации
www.pravo.gov.ru, 09.06.2020,
N 0001202006090032

Прямое экспонирование. Как достичь поставленного результата?

Несмотря на это, рынок установок прямого экспонирования до сих пор находится в стадии становления, появляются и уходят производители оборудования, совершенствуются технологии. Выбор оборудования в таких условиях непрост, а ответственность крайне высока ввиду важности технологического процесса. Попробуем в этом разобраться.

Толчком к развитию технологии прямого экспонирования в печатных платах стали требования по уменьшенному шагу выводов компонентов, приводящие к увеличению точности изготовления печатных плат. Шаг микросхемы вынуждал изготовителей повышать точность совмещения по защитной паяльной маске, что на фотошаблонах было довольно трудной задачей. Поэтому изначально эта технология нужна была именно для прецизионного экспонирования маски, а уже потом для экспонирования топологии проводящего рисунка. Не все изготовители оборудования справлялись с задачей экспонирования защитной паяльной маски (ЗПМ).

На текущий момент в конструкторской документации на платы все чаще встречаются жесткие нормы проектирования как с точки зрения параметров топологии — проводник/зазор, так и точности совмещения ЗПМ. Давайте рассмотрим несколько примеров.

Остек-Сервис-Технология помогает создавать цеха печатных плат «под ключ». Первый пример касается одной из выпускных работ по контракту с заказчиком — это изготовление платы с проектными нормами выше 7 класса точности по ГОСТ Р 53429-2009. При контактной площадке 350 мкм диаметр отверстия был 200 мкм при размере МПП 300 × 200 мм и толщине 1,8 мм (рис 1).

Иногда встречаются задачи с крайне малым освобождением защитной паяльной маски, что также накладывает высокие требования на точность совмещения, обеспечиваемую оборудованием (рис 2).

Изготовление плат со слоями в разных масштабах (что необходимо для стабильного производства любых плат выше 4-го класса включительно) вынуждает нас использовать прямое экспонирование и тщательно подходить к выбору оборудования (рис 3).

Рынок оборудования для прямого экспонирования

На данный момент оборудование для прямого экспонирования можно разделить на две большие категории: с лазерным источником света и светодиодным источником света.

Среди установок с лазерным источником света однозначным лидером является фирма Orbotech, Израиль (рис 4). Высокая надежность, производительность и круглосуточный сервис обеспечивают работоспособность более 1600 установок в мире. Несколько установок успешно эксплуатируются и в России.

Среди установок со светодиодным источником света большинство использует покупную однотипную оптику. Самостоятельно проектировали оптику и модули только три фирмы — PrintProcess, Швейцария (рис 5), Orbotech (под свою установку Diamond) и ведущая японская фирма. Японское оборудование в Европе и России распространения не получило, а швейцарское и израильское, наоборот, встречается на всех мировых рынках, в том числе и в России.

Ключевые составляющие успеха оборудования PrintProcess и Orbotech

1. Опыт в автоматическом оптическом совмещении топологий при производстве печатных плат 

Фирма PrintProcess обладает более чем 30-летним опытом в изготовлении систем автоматического оптического совмещения (установки Expomat, Targomat, Expoaligner). Установки прямого экспонирования Apollon были первыми в России, сейчас они позволяют получать контактные площадки под BGA-компоненты с минимальным шагом 0,3 мм и менее (рис 6).

Одним из первых в мире изготовителей систем прямого экспонирования была фирма Carl Zeiss, разработки которой на ранних стадиях приобрела фирма Orbotech. Огромные инвестиции в разработки, более 600 инженеров-разработчиков и исследователей фирмы Orbotech достигли невероятных результатов.

Почему же все фирмы так стремятся достичь высокой точности совмещения? Обратимся к формулам расчета точности:


Если подставить паспортные значения оборудования:


Если точность совмещения составляет 25 мкм, то при малейшем смещении мостика будет образовываться нахлест на контактную площадку и, соответственно, брак на финишной операции. Только точность совмещения 5 или 10 мкм позволяет с высоким выходом годных выполнять жесткие проектные нормы (рис 7).

Точность совмещения систем PrintProcess и Orbotech может быть дополнительно увеличена путем совмещения по комбинированным реперам (рис 8). Такие ситуации возникают, когда необходимо получить совмещение относительно и сквозных, и глухих отверстий. Причем можно задавать процент влияния в расчете. Опыт компаний в совмещении топологий стал ключевым моментом в успехе изготовления оборудования прямого экспонирования (рис 9).

2. Оптика

Важнейшим критерием принятия решения при приобретении установки прямого экспонирования является оптическая система.

Только представьте — расчет оптики на суперкомпьютере для установки прямого экспонирования Apollon занял несколько недель, в объективах PrintProcess использовались материалы сапфир и CaF2, обладающие высоким светопропусканием более 88 %. А отличительной особенностью оптики установок фирмы Orbotech является самая большая глубина фокуса, которая позволяет максимально комфортно работать с гибкими короблеными платами.

Другие установки на основании DLP используют кварц со светопропусканием 70 % (рис 10), что приводит к перегреву головки прямого экспонирования. Из-за этого пиксели на заготовке не сходятся и, как следствие, во время настройки такого оборудования приходится урезать матрицу экспонирования. Налицо потеря производительности и несоответствие заявленным в рекламе характеристикам.

3. Реальные условия работы на российских предприятиях

На участках экспонирования у мировых производителей печатных плат поддерживается 6 или 7 класс чистоты, что соответствует отечественному ГОСТ Р 50766-95. К сожалению, в России не всегда удается достигнуть таких значений. Поэтому в наших реалиях как никогда актуальны установки Apollon с системой очистки заготовки от пыли перед ее входом в камеру экспонирования и непосредственно перед экспонированием (рис 11), а также с обеспыленной средой в самой камере за счет избыточного давления и НЕРО-фильтров. Также камера экспонирования выполнена в закрытом виде, что позволяет повышать класс чистоты внутри установки. На территории РФ есть опыт эксплуатации таких установок в категории помещения «офис».

4. Производительность/автоматизация

Установки прямого экспонирования, предлагаемые нашей компанией, при энергии экспонирования 35 мДж/см2 (пример для фоторезиста) обеспечивают получение топологии рисунка 7 класса точности на заготовке 610 × 820 мм с производительностью до 300 сторон в час. А при энергии экспонирования 300 мДж/см2 (пример для паяльной маски) обеспечивают получение любого рисунка, включая 7 класс на заготовке 610 × 457 мм с производительностью 120 сторон в час. Важно: что при указании производительности мы даем финальные значения, учитывающие загрузку/разгрузку, совмещение, необходимую энергию экспонирования, минимальный проводник/зазор и размер заготовки.

В области автоматизации компании PrintProcess и Orbotech предлагают решения по полной автономности загрузки/разгрузки и переворота, что дает возможность интегрировать их в автоматическую линию изготовления слоев или формирования топологии по маске. У нас уже есть опыт внедрения линий, где человек не касается заготовок от момента загрузки в линию подготовки поверхности до момента разгрузки с линии снятия фоторезиста/металлорезиста (рис 12).

Опыт компании «Остек-СервисТехнология» в России

Остек-Сервис-Технология — единственная компания в России, которая обладает широчайшим опытом по установке, обслуживанию и модернизации оборудования, что дает увеличение производительности за счет увеличения количества головок экспонирования, а также перевода установки на более высокий уровень автоматизации. Мы внедрили более 30 установок прямого экспонирования на территории РФ. Наши сервисные инженеры регулярно проходят обучение у производителей систем прямого экспонирования, поэтому запуск, модернизация и обслуживание оборудования могут проходить без привлечения иностранных специалистов. Также у нас организован склад запасных частей для установок прямого экспонирования, поэтому их срок поставки равен сроку поставки от Москвы до вашего города.

Результаты от внедрения установок прямого экспонирования хорошо видны на платах, которые изготавливают наши заказчики (рис 13-17).

Заключение

В начале статьи мы обозначили ряд актуальных и непростых задач, которые стоят перед изготовителями печатных плат. Для их реализации специалисты ООО «Остек-Сервис-Технология» имеют готовые и проверенные в России решения.

Однозначными лидерами в мире по оборудованию для прямого экспонирования печатных плат являются фирмы PrintProcess и Orbotech благодаря прецизионному совмещению, лучшей оптике, самой высокой производительности и высокому уровню автоматизации. И это уже подтверждено на целом ряде предприятий России.

Вам остается только сделать правильный выбор!


Оптимизация процесса экспонирования фоторезиста - Журнал

Для решения проблемы оптимизации процесса экспонирования необходимо строго классифицировать его параметры по степени их влияния на точность получения рисунка. Оптимизация должна обеспечить наилучший выбор следующих характеристик:

  • экспозиции, при которой достигаются высокие качество и воспроизводимость результатов ФЛ;
  • толщины ФР для каждого вида поверхности;
  • режимов сушки с учетом ограничений, налагаемых этим процессом на другие параметры;
  • требований, предъявляемых к ширине линий топологии, и допусков на размеры с учетом используемых фотошаблонов и системы совмещения и экспонирования;
  • параметров всего ТП согласно режимам задубливания ФР;
  • концентраций, способов перемешивания и температуры проявителя с учетом параметров всего ТП;
  • режимов травления.

Подбор оптимального времени экспонирования осуществляется экспериментально с помощью подложек-спутников при разработке нового техпроцесса, использовании нового комплекта ФШ или новой партии ФР, смене источника излучения, изменении толщины фотослоя. Правильно выбрать время экспонирования можно только при учете взаимосвязи режимов экспонирования и проявления. Это объясняется тем, что при одинаковой экспозиции Н = E·t, но при различных соотношениях освещенности Е и времени t фотохимические процессы протекают по-разному и скорость проявления различна.

Для каждой подложки-спутника экспонирование проводят в течение разного времени. Затем, после проявления, контролируя каждый спутник, определяют время экспонирования, соответствующее лучшему качеству передачи изображения. Затем проделывают то же самое, но за фиксированный параметр берут полученное время экспонирования, а за переменный — время проявления.

По результатам этих испытаний строится характеристическая кривая зависимости оптической плотности светочувствительного слоя и выбирается оптимальная экспозиция, исходя из соответствующих требований к данному фотолитографическому процессу, например максимальным контрастности, четкости и т. д. При построении характеристической кривой в качестве критерия оценки фотохимического эффекта может быть взята скорость проявления облученного позитивного ФР (рис. 1, кривая 1), в той же плоскости координат изображена зависимость погрешности воспроизведения размеров элементов рельефа после проявления (рис. 1, кривая 2) от экспозиции. С помощью обеих кривых можно определить оптимальные экспозиции и время экспонирования для ФР различной толщины.

Для негативных ФР характеристическая кривая — зависимость толщины структурированного на определенную глубину слоя от экспозиции, а для позитивных на основе нафтохинондиазидов (НХД) — зависимость скорости проявления и точности воспроизведения рисунка от экспозиции.

Из рис. 1 видно, что в данном случае оптимальное время экспонирования лежит в диапазоне 5–25 с, а оптимальная экспозиция — в диапазоне 40–200 Дж/м². Эти диапазоны соответствуют области, в которой скорость проявления пропорциональна росту экспозиции, а погрешность воспроизведения размеров защитного рельефа минимальна.

Установление зависимости времени экспонирования (экспозиции) от толщины ФР является первым шагом в оптимизации процесса экспонирования. Толщина ФР должна быть постоянной, так как режимы сушки, экспонирования, проявления, задубливания и травления рассчитаны для определенной толщины ФР.

Более серьезная задача — обеспечение постоянства ширины линий рисунка. Изменение ширины линий связано со временем экспонирования (рис. 2).

Исследуя все параметры процесса, связанные с экспонированием, можно добиться минимального значения суммарного изменения линейных размеров рисунка, т. е. минимальной погрешности процесса.

Взаимосвязь дозы экспонирования и температуры сушки является важным технологическим параметром обработки ФР, который необходимо оптимизировать.

На параметры экспонирования непосредственно влияют степень удаления растворителя, а также температура и время сушки. На чувствительность ФР температура сушки оказывает более непосредственное влияние, чем ее длительность. Поэтому при использовании новых партий ФР необходимо построить зависимость энергии экспонирования от температуры сушки для заданного времени сушки и определенной длительности цикла проявления. Время сушки обычно составляет 20–30 мин в конвекционной печи, 2–3 мин — в ИК-печи и 1–2 мин — в СВЧ-печи. Типичное значение длительности цикла проявления равно 60 с для метода погружения и 15–30 с для метода распыления. На рис. 3 приведена кривая зависимости энергии экспонирования (Е) от температуры сушки ФР (Т).

Примечание. При температуре сушки 100 °C заметно ухудшается чувствительность большинства ФР.

Процесс обработки ФР можно оптимизировать по производительности и разрешающей способности или по различному числу комбинаций этих ключевых параметров. При определении оптимальной производительности процесс обработки ФР проводится при оптимальных режимах сушки и экспонирования, а проявление — при стандартном режиме. Оптимизация разрешающей способности требует более тщательного регулирования процессов сушки и экспонирования, а также проявления в сильно разбавленных растворах.

Литература

  1. ОСТ 107.750878.001-87 Технология изготовления тонкопленочных плат.
  2. Черняев В. Н. Технология производства интегральных микросхем и микропроцессоров. М.: Радио и связь. 1987.
  3. Энциклопедия машиностроения. Том III-8. Технологии, оборудование и системы управления в электронном машиностроении / Под ред. Ю. В. Панфилова. М.: Машиностроение. 2000.

Установка прямого автоматического экспонирования APOLLON DI A11

Артикул: 6449

Apollon DI A11 – это высокая производительность экспонирования, высокое разрешение (ширина проводников до 20 мкм), возможность масштабирования каждой заготовки индивидуально, традиционная для PrintProcess высокая точность совмещения, длительный срок службы светодиодного источника света, возможность использования традиционных фоторезистов и удобство автоматизации.

Особенности установок серии APOLLON-DI:
  • Модульная конструкция, позволяющая увеличить производительность в будущем за счет увеличения количества экспонирующих модулей и добавления элементов автоматизации (автоматического загрузчика, автоматического разгрузчика, модулей переворота заготовки).
  • Модуль считывания штрих-кодов для автоматической загрузки заданий (опция).
  • Изолированная зона экспонирования, имеющая систему фильтрации окружающего воздуха с помощью НЕРА фильтра, что делает зону экспонирования более чистой, чем в помещении.
  • Встроенная система очистки поверхности заготовок от пыли и загрязнений перед подачей в зону экспонирования, а также непосредственно перед засветкой.
  • Интуитивно понятное управление с помощью сенсорного экрана. Возможна удаленная загрузка управляющих программ и контроль работоспособности установки. Поддерживаются различные форматы данных, включая Gerber и ODB++.
  • Широкие возможности по сериализации: номер заготовки, номер ПП, дата, время, масштаб, 1D и 2D штрих-коды.
  • Автоматическое совмещение с помощью видеокамер. Возможна привязка к технологическим или переходным отверстиям, реперным знакам на топологии, меткам на контрастном фоторезисте, меткам на заготовке.
  • Гранитное основание установки и линейные приводы по всем осям.  
Тип установки Полуавтоматическая, с ручной загрузкой/ разгрузкой
Минимальный размер заготовки, мм 200 x 305
Максимальный размер заготовки, мм 610 x 635
Толщина заготовки, мм 0,050 — 5,0
Разрешение, мкм 2,1 / 3,5
Минимальная ширина проводника —
зазора, мкм
 20 / 35
Неровность края, мкм 2,1 / 3,5
Изменение ширины проводника
в пределах*
±2,1 / ±3,5
Производительность до, заготовок/час 220
Реперные знаки Отверстие / Кольцо / Переходное отверстие метка на контрастном ф/р
Точность совмещения +-5
Выравнивание XY, поворот, масштаб
Время смены задания, сек <10
Глубина фокуса, мкм 300нм
Способ закрепления заготовки Вакуумный прижим
Встроенная очистка заготовок от пыли 2 головы
Давление сжатого воздуха, бар 6
Электропитание 400В , 3 фазы, 50 Герц, 1,8 квт
Габариты установки, мм 2420 x 1850 x 1850
Вес, кг 2900

Особенности экспонирования на выставках

Особенности экспонирования на выставках.

Международное бюро интерьера и архитектуры «KASHUBA DESIGN» на своих стендах от 60  до 9 кв. м. в различных по тематике выставках (8-10 ежегодно) традиционно использует динамическое взаимодействие двух функциональных зон: предметно - экспозиционной и мультимедийной.  Имеет место модульность экспонируемых объектов, их изменяемость и сменяемость, включая символику, цветовые сочетания и геометрические формы. На каждой выставке, экспозиция стенда запускает динамический процесс современной жизни, происходит временной скачок из современности, с отголосками прошлого и перспективами для будущего. Примеры созданных эксклюзивных проектов, как самостоятельных систем, несут идеологию мечты, реализованной в дизайне интерьера, в конкретную жизнь. Десятки тысяч посетителей стендов бюро подтверждают выбранное гибкое направление экспонирования и принятый динамичный вектор развития с взаимодействием между собой всех элементов пространства стенда.  В систему входит знакомство со специалистами бюро, дизайнерами, архитекторами.

В год своего ХХ -летия бюро «KASHUBA DESIGN» экспонент 5-ой Международной выставки предметов интерьера и декора «InDecorMoscow» (10-13 октября 2018) в МВЦ «Крокус-Экспо». Организатор этого мероприятия – Группа компаний ITE, лидер рынка выставочных услуг России. InDecor Moscow – замечательный  выставочный проект формата «бизнес для бизнеса», где демонстрируются стильные дизайнерские предметы интерьера и декора, аксессуары для дома - мебель, посуда, предметы сервировки и украшения стола, светильники, пледы, коврики, парфюмерия для дома, новогодний декор и многое другое, а также отражаются последние тенденции и новинки индустрии дизайна и декорирования помещений.  На выставке (павильон 2, зал 9), первый[u2]  посетитель стенда нашего бюро получит в подарок золотую наклейку, остальные, по согласованию с редакцией, получат(бесплатно) популярный глянцевый журнал «РRO - интерьер, дизайн и декор» (лето – осень 2018).

 сайте www.kashubadesign.ru.     

      25.09. 2018

Информационно творческий портал                                                                                                                                                                                                                                                                                             

Организация книжных выставок,предоставление изданий и изображений для экспонирования

Главная/Платные услуги

Уважаемые коллеги!

Наша библиотека может предоставить вам издания и электронные изображения напрокат для организации тематических выставок, а также предоставить право использования электронного изображения из электронной библиотеки:

13.

Организация книжных выставок**
(облагается НДС в установленном порядке, согласно главе 21 НК РФ)

13. 1

тематических стационарных и выездных 

1 документ

100 - 1000

13.2

сопровождение материалов для экспонирования 

1 день 

500

13.3

оказание помощи в проведении и оформлении выставок

1 час

150 - 300

14.

Предоставление книг и изображений из фондов**

14.1

Напрокат для участия в выставках организуемых другими учреждениями и организациями (НДС не облагается на основании пп.20, п.2 статьи 149 )

 

1 месяц

1 издание

1000

 

1 месяц без права продления

1издание ед. экземпляра

2000

14.2

Электронного изображения

1 изобр. 

500

 

(облагается НДС в установленном порядке, согласно главе 21 НК РФ)

15.

Предоставление разрешения на использование электронного изображения ** (облагается НДС в установленном порядке, согласно главе 21 НК РФ)

 

для образовательных и научных целей

1 изобр.

1000

  при коммерческом использовании изображений 1 изобр. цена договорная

Определение и значение экспоната | Словарь английского языка Коллинза

Примеры "выставлять" в предложении

экспонат

Эти примеры были выбраны автоматически и могут содержать конфиденциальный контент.Подробнее… Ее деятельность включала выставку фотографий из лагеря.

Times, Sunday Times (2016)

К середине века было реже показывать настоящие человеческие останки в музейных экспонатах.

Smithsonian Mag (2017)

Собаки, проявляющие такое поведение, обычно делают это из-за одиночества.

The Sun (2016)

Ужасающие условия, в которых находятся животные, также пробудили в стране растущее движение за права животных.

Times, Sunday Times (2016)

Здесь впервые экспонируются работы австралийских художников.

Times, Sunday Times (2016)

Он выставлял свои работы на групповых выставках, однажды вместе с Пикассо.

Times, Sunday Times (2017)

Этот шкаф легко мог бы стать выставкой в ​​галерее, посвященной торговле или, в крайнем случае, физике.

Times, Sunday Times (2016)

Работы выставлены по всему саду и в лесу.

Солнце (2015)

Было много художественных выставок, ушедших с молотка.

Солнце (2008)

Это моя лебединая неделя, когда участвую в конкурсных выставках школ.

Солнце (2013)

Подробнее ...

Но ведь в каждой коллекции должен был быть экспонат-сюрприз.

Майкл Бултер EXTINCTION: Evolution and the End of Man (2002)

Никто не станет предполагать, что эта ошибка проявляет разумное поведение.

Эванс, Питер и Дихан, Джефф Происхождение разума - как и почему интеллект (1990)

Религиозные верования и ритуалы также демонстрируют адаптивные отношения в форме табу.

Харрис, Марвин Культурная антропология (1995)

Вид ее работ, выставленных на стенах галереи, вызывает двойственное чувство.

Times, Sunday Times (2011)

Вместо этого он решил выставлять только новые работы.

Times, Sunday Times (2012)

Его работы выставлялись в нескольких галереях.

Times, Sunday Times (2010)

Фотографии на выставке показывают неожиданное сооружение.

Times, Sunday Times (2009)

Многие строят собственные музеи, чтобы выставлять свои покупки.

Times, Sunday Times (2013)

Большинство экспонатов коллекции ранее не были представлены публике.

Times, Sunday Times (2009)

Это не делается с помощью вывесок или стеклянных экспонатов.

Times, Sunday Times (2013)

Никто не должен извиняться за поведение, которое является полностью естественным.

Times, Sunday Times (2014)

Многие из них также являются рабочими экспонатами, которые являются частью ежедневных выставок на аренах.

Times, Sunday Times (2010)

Он был заснят в художественной галерее тем же желтушным органом, когда он выносил вердикт по выставленным экспонатам.

Times, Sunday Times (2012)

Экспонаты кажутся идеально подобранными, а не целенаправленно включенными.

Times, Sunday Times (2015)

Хотя он и стеснялся, вскоре он выставлял свои скульптуры по всему миру и организовывал мастерские.

Times, Sunday Times (2015)

Конечно, его галерея чудаков демонстрирует умный рот и темное чувство юмора.

Times, Sunday Times (2014)

НЕСКОЛЬКО футбольных колонок демонстрируют интерес к обуви, как и эта.

Солнце (2012)

Я их самый интересный экспонат.

Times, Sunday Times (2010)

Пара будет выставлена ​​в Бакстонском музее в следующем месяце.

Times, Sunday Times (2012)

Производители роз, как обычно, выставили роскошные экспозиции в цветочном павильоне, но в больших выставочных садах их почти не было.

Times, Sunday Times (2016)

10 лучших советов для успешного участия в выставке

Кэнди Адамс, The Booth Mom®

Меня, как наркомана выставок с 25-летним пристрастием, попросили поделиться своим лучшим советом, чтобы максимизировать выставочные результаты экспонентов. Вот 10 простых, но эффективных советов, которые может использовать каждый экспонент.

1. Знайте свою аудиторию и ориентируйте свою выставку на их потребности.

Найдите время, чтобы определить своего идеального потенциального покупателя для вашего продукта или услуги на каждой выставке. Выберите наиболее подходящие решения для презентации вашей выставки целевой аудитории. Помните об этих решениях, создавая рекламные сообщения для своей выставки, акцентируя внимание на преимуществах ваших продуктов и на том, как они решают проблемы посетителей.

2. Определите и расставьте по приоритетам три основные причины, по которым вы участвуете в выставках.

Вы можете выставляться по адресу:

  • Соберите квалифицированных потенциальных клиентов
  • Продвигайте новые товары
  • Увеличьте свой корпоративный бренд
  • Обучайте свою аудиторию
  • Цемент существующих отношений с клиентами
  • Проведение деловых встреч
  • Получить освещение в прессе / СМИ
  • Набор дистрибьюторов / дилеров / представителей / сотрудников
  • Проведение конкурентных / маркетинговых исследований
  • Посещать образовательные занятия

Сосредоточьтесь на этих причинах при принятии стратегических решений и решений о расходах. Спросите себя: «Поможет ли это мне достичь моих целей?»

3. Ставьте стратегические измеримые выставочные цели.

Ставьте реалистичные цели на основе вашего целевого рынка в виде процента от ожидаемой посещаемости шоу, количества часов выставок, размера выставки, штата и бюджета. Заранее определите, как вы будете оценивать успех по окончании шоу.

4. Укажите продукты или услуги, которые вы хотите продемонстрировать.

«Новый» - самое сильное слово на выставочной площадке.Новинки - это магниты для посетителей! Если у вас большая линейка продуктов, показывайте только соответствующий образец. Посетители выставки хотят интерактивно испытать ваш продукт или услугу на вашей выставке, а не просто пройти или пройти мимо нее.

5. Создайте привлекательный, функциональный, лаконичный экспонат.

Держите свою выставку открытой и привлекательной. Не загораживайте более 20% прохода прилавками, стенами или излишками выставочного персонала. Используйте цвет, свет и движение, чтобы привлечь посетителей.Затем держите их у себя на стенде, используя увлекательные презентации, практические демонстрации, «информационные развлечения» и профессиональный персонал.

6. Используйте эффектную графику, ориентируясь на потребности потенциальных клиентов.

Планируйте свою графику как большие красочные визуальные лежачие полицейские, чтобы привлечь внимание посетителей и передать ваше сообщение. Эффективная графика вызывает интерес к вашему продукту или услуге, рассказывая потенциальным потенциальным клиентам, на что способен ваш продукт. за их примерно за 3-1 / 2 секунды, время, необходимое, чтобы пройти мимо будки 10 х 10 футов.

7. Продвижение - предварительная выставка, выставка, выставка

Проявите инициативу в том, чтобы пригласить свой самый разыскиваемый список квалифицированных посетителей. Отраслевые исследования показали, что экспонент может удвоить количество квалифицированных лидов на выставке с помощью эффективных рекламных кампаний перед выставкой и на выставке.

8. Подготовьте свой выставочный персонал к «шоу-бизнесу».

Выставки - это другая модель возможностей продаж с уникальными задачами. Точно так же, как вы не отправили бы актера на сцену без сценария, на репетицию с другими актерами и реквизитом, не ожидайте, что сотрудники вашей выставки выступят на вашей выставке неподготовленными.Удвойте количество квалифицированных потенциальных клиентов, выделив несколько процентов своего общего бюджета на профессиональное обучение выставочного персонала.

9. Запишите всю важную информацию о последующих действиях в форме для потенциальных клиентов.

Спланируйте заранее, кто будет следить за вашими лидами, чтобы решить, какая соответствующая информация им понадобится, включая контактную информацию, интерес к продукту, текущего поставщика, причину смены поставщиков, роль в процессе покупки, сроки покупки и запрошенные последующие действия .

10.Обеспечьте обещанное последующее наблюдение в течение 48 часов после закрытия выставки (если не раньше).

По статистике отрасли, нет, отслеживают 80% лидов на выставках! Перед отъездом на шоу подготовьте последующий процесс после выступления. Выделитесь, связавшись с вашими потенциальными клиентами согласованным способом - и не позднее, чем через неделю после закрытия выставки.

Кэнди Адамс - ветеран независимого выставочного проекта, консультант, тренер выставочного персонала, отраслевой докладчик и обозреватель / преподаватель журнала EXHIBITOR и конференций.Свяжитесь с ней по телефону [email protected] . Для получения дополнительной информации посетите www.BoothMom.com

Правила участия

- The Center At Eagle Hill

Правила участия в галерее

Центр на Игл-Хилл имеет 13 незащищенных открытых альковных зон и 1 застекленное закрывающееся пространство: Галерея Олсоп. Все помещения спроектированы таким образом, чтобы дополнять представленные произведения искусства стенами нейтрального цвета, освещением музейного качества и подвесными системами. Галерея Spaces открыта для жителей кампуса и публики ежедневно. Экспонаты включают произведения искусства в различных средствах массовой информации, созданные студентами, преподавателями, выпускниками и региональными художниками, а также национальными и зарубежными художниками.

Коллектив галереи (директор, студенты-стажеры) ежегодно курирует различные экспонаты. Поскольку мы стремимся служить нашему студенческому населению, выполняя нашу миссию, темы и расписания для Spaces Gallery направлены на поддержку и улучшение учебных целей как академических, так и жилых программ.В галерее Spaces проходят 2 пригласительные выставки в дополнение к ежегодной выставке студентов / преподавателей / выпускников в связи с семейным уик-эндом Arts on the Hill в мае. Эта выставка продолжается все лето.

ОБЪЕКТ

1 открытая ниша 6 футов 6 дюймов x 10 футов x 3 1/2 дюйма
2 открытых ниши 10 футов x 10 футов x 3 ½ дюйма D (имеет видимость - перила)
1 открытая ниша 5 футов 3 дюйма Ш x 32 дюйма x 3 1/2 дюйма (имеет пожарную сигнализацию в нижней половине)
1 открытая ниша 5 футов 3 дюйма x 6 футов 6 дюймов x 3 1 / 2D
2 открытых ниши 11 футов 6 дюймов Ш x 6 '6 "x 3 ½" D
6 открытых ниш 8'6 "x 6'6" x 3 1/2 "D
Галерея также: одна стена 24' x 6 'в пространстве глубиной 6 футов


БЕЗОПАСНОСТЬ

Здание полностью охраняется после комендантского часа или после завершения общественных программ.
Ежедневно и во время публичных представлений галереи открыты.
Галерея «Олсоп» полностью закрывается; зоны алькова полностью открыты.


СТРАХОВАНИЕ

Каждый экспонат полностью застрахован при условии, что художник предоставил утвержденный инвентарный список, в котором указана стоимость каждого экспоната. Хотя произведение искусства никогда не крали, художники должны помнить об ограниченных мерах безопасности при принятии решения, какие работы выставить.

ПОЛИТИКА ПРОДАЖ

Работа может быть продана. Однако каждый художник несет ответственность за продажу любой работы напрямую покупателю.Проданные работы должны оставаться на выставке в течение указанного периода.
EHS не берет комиссию


УКАЗАНИЯ ПО УЧАСТИЮ

EHS принимает во внимании, что все сегменты общества и все возрастные группы будут иметь доступ ко всем экспонатам, поэтому мы оставляем за собой право быть дискриминационными в отношении уместности работ чувствительного или противоречивого характера (например, работы, включая наготу, насилие и т. д.) .

ТРЕБОВАНИЯ К ВЗАИМОДЕЙСТВИЮ СТУДЕНТОВ / СООБЩЕСТВА / ХУДОЖНИКОВ

Каждый художник может провести 40-минутную общешкольную презентацию; содержание презентации обсудить с художником,

-или-

Каждый художник может выбрать взаимодействие с нашим студенческим сообществом и преподавательским составом посредством участия в виде взаимно согласованной практической деятельности, такой как семинар или творческий опыт под руководством художника.(предпочтительно)

Художник получит стипендию за эти услуги.

ОБЩЕСТВЕННОСТЬ, ПРЕДОСТАВЛЯЕМАЯ EHS

пресс-релизы
объявления / приглашения, в бумажном и электронном виде (мы оплатим рассылку до 100 объявлений за вас)
веб-сайт, посвященный
открытию приема, организованному EHS


ТРЕБУЕТСЯ ОТ ХУДОЖНИКА

заявление, относящееся к выставляемой работе
биография / резюме
компакт-диск или отправленное по электронной почте jpeg не менее 5 штук, которые будут включены в выставку.
подробный список работ, включая цены (для целей страхования)
контактная информация художника
фотография художника
адрес местной газеты художника
любые вспомогательные материалы, с которыми художник хочет, чтобы Spaces Gallery работала.

Rutgers University Press

Rutgers University Press

Февраль 2021 г.

Солнце Пн Вт ср Чт Пт сб

1

2

3

4

5

6

7

8

9

10

11

12

13

14

15

16

17

18

19

20

21 год

22

23

24

25

26

27

28

Условия участия (от А до Я) - Sternberg Press

Эта публикация исследует темы выставки через ее термины, но не для того, чтобы ограничиться отдельными концептуальными категориями, а для взаимосвязи. Эти термины характеризуют проявление и подчеркивают «промежуточность». Изучение термина обнажает его разрывы, сдвиги или воссоздания, а также социальные, социальные и культурные изменения, которые могут быть структурированы посредством исторических предположений.

Почти пятьдесят терминов, относящихся к созданию и обсуждению выставок сегодня, собраны в Условиях экспонирования (от А до Я) , предоставленных Лиамом Гилликом, Манфредом Гермесом, Войцехом Космой, Клеменсом фон Ведемейером, Тобиасом Фогтом, Йохеном Фольцем, и Джун Яп, среди прочих.В шести эссе исследуются ключевые термины, поднятые серией выставок из трех частей «Условия экспонирования, производства и исполнения» в Kunsthaus Dresden в 2012 году. Ян Фервурт размышляет о разделении труда в художественном производстве, а Анке те Хеесен представляет обзор музей, собрание, выставка. Маркус Миссен обсуждает преимущества кураторства над учреждениями и изобретения структур, а не просто их внедрения или присвоения. В книгу также вошли эссе Кирстен Маар, Урсулы Панханс-Бюлер и Ли Вен-Чой.В каждом из двенадцати бесед с различными художниками один термин подвергается тщательному изучению в контексте их собственных художественных интересов и практик - со ссылкой на термин «присутствие» Дэниел Норр объясняет значение материализации для своего творческого процесса, а Брайан О'Догерти обсуждает изобретение применительно к его практике. Каждый термин способствует дальнейшему пониманию и размышлению о каждой отдельной художественной практике.


Включая глоссарии, написанные Фридрихом фон Боррисом, Ханс-Кристианом Дани, Стефани Дикманн, Анной-Катариной Гебберс, Лиамом Гиллик, Манфредом Гермесом, Ульрикой Джордан, Верой Нолле, Войцехом Космой, Вереной Куни, Пабло Лариос, Уной Лохнер, Фионой Андреа Мейер, Ана Офак, Кристиан Раттемейер, Петра Райхенспергер, Дитмар Рюбель, Тибо де Рюйтер, Йорн Шафафф, Леа Шлейфенбаум, Энн Шрайбер, Нора Сдун, Вера Толлманн, Клеменс фон Ведемейер, Тобиас Фогт, Ренатериг Фольц, Йохен Вольц Июнь

Яп.

на выставке FMX | AAFP

Благодарим за поддержку AAFP и FMX 2020.Мы ценим ценность, которую наши выставочные партнеры приносят всем врачам и медицинским специалистам. Мы надеемся, что ваш выставочный опыт в этом году увенчался успехом. Ниже приведены некоторые дополнительные элементы, которые помогут вам опубликовать мероприятие.

Регистрационный номер
  • 4499 врачей
  • 243 медицинских специалиста (ПА, НП, медсестры и т. Д.)

Окончательные регистрационные номера будут доступны примерно 26 октября.

Опрос после выставки

Ваше основное контактное лицо на выставке получит опрос после выставки. Пожалуйста, найдите время, чтобы заполнить этот опрос и поделиться своим мнением. Группа планирования FMX и команда исполнительного руководства AAFP читают данные опроса и комментарии, чтобы убедиться, что FMX остается успешным мероприятием как для посетителей, так и для экспонентов. Наша команда приветствует все отзывы и использует их для улучшения и улучшения будущих конференций.

Отчеты после выставки

Нужна помощь в загрузке отчетов о выставках FMX на виртуальной платформе FMX через Hubb / Dynamic Events? Обратитесь к fmxexhibitors @ Dynamicevents.com, и они вам помогут.

Почтовый файл для регистрантов

Охватите участников FMX 2020 года с помощью InFocus Marketing , эксклюзивного менеджера списков AAFP, или свяжитесь с InFocus напрямую по (800) 708-5478 или [email protected] Примечание. Стоимость аренды этого списка рассылки составляет 525 долларов.

2021 AAFP FMX

28 сентября - 2 октября 2021 г.
Конференц-центр Анахайма | Анахайм, Калифорния

FMX 2021 в настоящее время планируется провести в Анахайме.Вернитесь на эту веб-страницу в марте, когда будут доступны обновленные сведения о выставке. Наша команда будет продолжать предоставлять обновления по мере их появления. Если у вас есть вопросы до марта, обращайтесь напрямую к нашей команде.

Еще раз спасибо за сотрудничество!

Условия участия (от А до Я)

Эта публикация исследует темы выставки через ее термины, но не для того, чтобы ограничиться отдельными концептуальными категориями, а для взаимосвязи.Эти термины характеризуют проявление и подчеркивают «промежуточность». Изучение термина обнажает его разрывы, сдвиги или воссоздания, а также социальные, социальные и культурные изменения, которые могут быть структурированы посредством исторических предположений.

Почти пятьдесят терминов, относящихся к созданию и обсуждению выставок сегодня, собраны в Условиях экспонирования (от А до Я) , предоставленных Лиамом Гилликом, Манфредом Гермесом, Войцехом Космой, Клеменсом фон Ведемейером, Тобиасом Фогтом, Йохеном Волцем. , Джун Яп и другие.В шести эссе исследуются ключевые термины, поднятые серией выставок из трех частей «Условия экспонирования, производства и исполнения» в Kunsthaus Dresden в 2012 году. Ян Фервурт размышляет о разделении труда в художественном производстве, а Анке те Хеесен представляет обзор музей, собрание, выставка. Маркус Миссен обсуждает преимущества кураторства над учреждениями и изобретения структур, а не просто их внедрения или присвоения. В книгу также вошли эссе Кирстен Маар, Урсулы Панханс-Бюлер и Ли Вен-Чой.В каждом из двенадцати бесед с различными художниками один термин подвергается тщательному изучению в контексте их собственных художественных интересов и практик - со ссылкой на термин «присутствие» Дэниел Норр объясняет значение материализации для своего творческого процесса, а Брайан О'Догерти обсуждает изобретение применительно к его практике. Каждый термин способствует дальнейшему пониманию и размышлению о каждой отдельной художественной практике.

авторов Анке те Хеесен, Кирстен Маар, Маркус Миссен, Урсула Панханс-Бюлер, Ян Фервурт, Чой Ли Венг; интервью Доры Маурер / Кассандры Эдлефсен Лаш, Чанной Хорвиц / Петры Райхенспергер, Яэль Давидс / Адама Шимчика, Брайана О'Догерти / Доминика Мюллера, Карла Михаэля фон Хауссвольфа / Тибо де Руйтера, Карла Хольмквист / Катарины Мюллера Ярослав Козловский / Петра Стегманн, Ханс Шабус / Катрин Ромберг, Стивен Клейдон / Леа Шлейфенбаум, Карин Сандер / Энн Шрайбер, Мартин Германн / Петра Райхенспергер / Ренате Вагнер

Включая глоссарии, написанные Фридрихом фон Кристианом Даник, Гансом Анна-Катарина Гебберс, Лиам Гиллик, Манфред Гермес, Ульрике Джордан, Вера Нолле, Войцех Косма, Верена Куни, Пабло Лариос, Уна Лохнер, Фиона МакГоверн, Андреа Мейер, Ана Офак, Кристиан Раттемайер, Петра Райхенспергер, Дитмар Рюбельшпергер , Йорн Шафафф, Леа Шлейфенбаум, Энн Шрайбер, Нора Сдун, Вера Толлманн, Клеменс фон Ведемайер, Тобиас Фогт, Йохен Фольц, Ренате Вагнер, Фридерике Вапплер, июнь

г.

alexxlab

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *